स्वचालित तापमान और आर्द्रता नियंत्रण

साफ कमरे का तापमान और आर्द्रता मुख्य रूप से प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुसार निर्धारित की जाती है, लेकिन इस शर्त के तहत कि प्रक्रिया आवश्यकताओं को पूरा किया जाता है, मानव आराम को ध्यान में रखा जाना चाहिए।वायु स्वच्छता आवश्यकताओं में वृद्धि के साथ, यह प्रवृत्ति है कि इस प्रक्रिया में तापमान और आर्द्रता पर अधिक से अधिक कठोर आवश्यकताएं होती हैं।

जैसे-जैसे मशीनिंग सटीकता बेहतर और बेहतर होती जा रही है, तापमान में उतार-चढ़ाव की सीमा की आवश्यकताएं छोटी और छोटी होती जा रही हैं।उदाहरण के लिए, बड़े पैमाने पर एकीकृत सर्किट उत्पादन की लिथोग्राफी एक्सपोज़र प्रक्रिया में, डायाफ्राम की सामग्री के रूप में ग्लास और सिलिकॉन वेफर के थर्मल विस्तार गुणांक के बीच का अंतर छोटा और छोटा होना आवश्यक है।100μm व्यास वाला एक सिलिकॉन वेफर तापमान 1 डिग्री बढ़ने पर 0.24μm का रैखिक विस्तार करेगा।इसलिए, इसका स्थिर तापमान ±0.1 डिग्री होना चाहिए।साथ ही, आर्द्रता का मान आम तौर पर कम होना आवश्यक है, क्योंकि किसी व्यक्ति को पसीना आने के बाद, उत्पाद प्रदूषित हो जाएगा, विशेष रूप से सेमीकंडक्टर कार्यशालाओं के लिए जो सोडियम से डरते हैं, इस प्रकार की स्वच्छ कार्यशाला 25 डिग्री से अधिक नहीं होनी चाहिए।

अत्यधिक नमी अधिक समस्या उत्पन्न करती है।जब सापेक्ष आर्द्रता 55% से अधिक हो जाती है, तो शीतलन जल पाइप की दीवार पर संक्षेपण हो जाएगा।यदि यह किसी सटीक उपकरण या सर्किट में होता है, तो यह विभिन्न दुर्घटनाओं का कारण बनेगा।जब सापेक्षिक आर्द्रता 50% हो तो जंग लगना आसान होता है।इसके अलावा, जब आर्द्रता बहुत अधिक होती है, तो सिलिकॉन वेफर की सतह पर धूल हवा में पानी के अणुओं द्वारा रासायनिक रूप से सतह पर सोख ली जाएगी, जिसे हटाना मुश्किल है।सापेक्ष आर्द्रता जितनी अधिक होगी, आसंजन को हटाना उतना ही कठिन होगा, लेकिन जब सापेक्ष आर्द्रता 30% से कम होती है, तो इलेक्ट्रोस्टैटिक बल और बड़ी संख्या में अर्धचालक की क्रिया के कारण कण सतह पर आसानी से सोख लिए जाते हैं। उपकरणों के खराब होने का खतरा रहता है।सिलिकॉन वेफर उत्पादन के लिए सर्वोत्तम तापमान सीमा 35~45% है।